低溫等離子廢氣處理設(shè)備的技術(shù)機理

 

　　低溫等離子廢氣處理設(shè)備的技術(shù)機理：

 

　　等離子體去除惡臭是通過兩個途徑完成的：一個是在高能電子的瞬間是高能量效果下，翻開某些有害氣體分子的化學(xué)鍵，使其直接分解成單質(zhì)原子或無害分子;另一個是在很多高能電子、離子、激起態(tài)粒子和氧自在基、氫氧自在基(自在基因帶有不成對電子而具有很強的活性)等效果下的氧化分解成無害產(chǎn)品。***要有下面幾個過程：

 

　　1、在高能電子效果下，強氧化性自在基O、OH、OH2的產(chǎn)生;

 

　　2、有機物分子遭到高能電子磕碰被激起，及原子鍵開裂構(gòu)成小碎片基團和原子;

 

　　3、O、OH、HO2與激起原子、有機物分子、廢氣處理公司破碎的基團、其他自在基等產(chǎn)生一系列反應(yīng)，有機物分子終究被氧化降解為CO、CO2、H2O。去除率的凹凸與電子能量和有機物分子結(jié)合鍵能的***小有關(guān)。

 

　　從除臭機理上剖析，***要產(chǎn)生以下反應(yīng)：

　　H2O+O2、O2-、O2+——SO3+H2O

 

　　NH3+O2、O2-、O2+——NOx+H2O

 

　　H2S去除率可達91.9%，NH3去除率可達93.4%，臭氣濃度去除率可達93.6%。

 

　　從上述反應(yīng)來看，惡臭組分通過處理后，轉(zhuǎn)變?yōu)镹Ox、SO2、CO2、H2O等小分子，在必定的濃度下，各種反應(yīng)的轉(zhuǎn)化率均在95%以上，并且惡臭濃度較低，因而產(chǎn)品的濃度極低，均能被周邊的***氣所承受。